光刻机

4月24日，据第一财经，在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上，浙江大学吴汉明院士、中芯国际联席CEO赵海军等多位半导体界人士对光刻机、产能等关键问题展开讨论。

1月25日消息，据国外媒体报道，台积电和三星电子的芯片制程工艺，均已提升到了5nm，更先进的工艺研发也在推进，并在谋划量产事宜。

日本的佳能曾经是最大的光刻机制造商之一，后来逐渐衰微。但佳能并没有放弃光刻机业务。据日经中文网报道，佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”，用来抢占高功能半导体市场。