<p><strong>日本的佳能曾经是最大的光刻机制造商之一，后来逐渐衰微。但佳能并没有放弃光刻机业务。据日经中文网报道，佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”，用来抢占高功能半导体市场。</strong>时隔7年，佳能更新了面向小型基板的半导体光刻机，该设备使用波长为365纳米的“i线”光源，支持直径从2英寸（约5厘米）到8英寸（约20厘米）的小型基板，生产效率较以往机型提高了约17％。</p>

<p><img alt="佳能将推新光刻机 生产效率提升17%" data-entity-type="file" data-entity-uuid="0ef172e5-3af9-4fea-9c31-9c902101dbee" src="http://new.eetrend.com/files/2021-01/wen_zhang_/100060745-118550-jianen…; /></p>

<p>就工艺水平而言，佳能的这款新型光刻机是入门级别的，它的最大价值在于帮助企业提高产能。</p>

<p>除了主流的硅晶圆之外，该机还可以提高小型晶圆较多的化合物半导体的生产效率。包括功率器件耐压性等出色的碳化硅（SiC），以及作为5G相关半导体材料而受到期待的氮化镓（GaN）等。</p>

<p>此外，佳能还致力于研发“后期工序”（制作半导体芯片之后的封装加工等）中使用的光刻机，比如去年7月推出的515毫米×510毫米大型基板的光刻机。据悉，佳能正在着力开展新一代生产工艺的研发。</p>

<p>来源：手机中国</p>