ASML 公司近日宣布将会自今年开始，提供透射率超过 90% 薄片的极紫外（EUV）系统。ASML 韩国市场经理 MyoungKuy Lee 在 SMC 韩国研讨会上说，该公司将开始生产透射率超过 90.6% 的薄片。
Lee 表示通过和 Teradyne 公司的共同合作，这些薄片已经确保了 400 瓦的功率耐久性。这家位于荷兰的工厂设备制造商在 2016 年首次开发了多晶硅 EUV 薄膜。当时，它的透光率为78%。它在 2018 年开发出的透光率约为 80%，另一种在 2020 年超过 85%。
EUV 系统的光线从镜子中反射到晶圆上，与以前使用氟化氩激光器从顶部射入晶圆的系统不同。这就要求用于 EUV 系统的薄膜更加透明，以确保光线通过它们到达晶圆时不会被削弱。三星和台积电此前曾表示，他们需要透光率超过 90% 的薄片才能考虑使用这些薄片。
这些公司已经使用了没有薄膜的EUV系统，尽管由于透射率不理想而有灰尘沉淀的风险。ASML的颗粒将由日本的三井化学公司制造。两家公司早在2019年就签署了关于EUV胶粒的合作协议。
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