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EDA

实至名归 I 芯华章EDA 2.0荣获2021年度前瞻技术研究奖

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11月3日,由全球电子技术领域知名媒体集团ASPENCORE主办的“2021全球高科技领袖论坛-全球CEO峰会”于深圳隆重举行。芯华章以面向未来的下一代集成电路智能设计流程(EDA 2.0)研究,荣获全球电子成就奖“2021年度前瞻技术研究”奖项。

活动回顾| E创受邀参加CCF DAC 2021,助力EDA共性技术发展

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日前,CCF 第2届集成电路设计与自动化学术会议(CCF DAC 2021)于武汉成功召开。南京集成电路设计服务产业创新中心有限公司受大会邀请参加并就OpenEDA®开源平台最新进展发表演讲,其中的OpenEDI开源数据基础组件引起了与会者广泛的关注。

IC设计进入EDA 2.0时代,芯华章率先提出下一代EDA关键路径

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EDA工具从诞生到现在已经发展了50年,纵观其发展历程,芯片设计抽象层级在不断提高,从早期的晶体管级仿真到硬件描述语言再到基于IP模块的设计,这个过程中硬件芯片设计的抽象层级不断提升,但工程师们仍然大量时间用于验证,进入21世纪之后,微电子技术取得了突飞猛进的发展,以HDL语言描述、系统级仿真和综合技术为特点,以自动化设计为目标的EDA工具逐渐出现,并发展为今天这样面向专用集成电路(ASIC)的设计流程。