ASML的EUV光刻机已然成为7nm以下制程的关键。
此前，三星、台积电、Intel等巨头都购入单价高达10亿元的EUV光刻机用于生产。而今除了CPU之外，内存工艺也会逐步导入EUV光刻机。
EUV光刻机可以减少多重曝光工艺，提供工艺精度，从而可以减少生产时间、降低成本，并提高性能。
2 月 24 日，据路透社报道，全球第二大DRAM内存供应商 SK 海力士周三表示，已与 ASML 签订一项为期 5 年、价值 4.8 万亿韩元（约合 43.4 亿美元）的采购合同。
SK 海力士在一份监管文件中称，这笔交易是为了实现下一代工艺芯片量产的目标，为芯片制造确保足够数量的 EUV 光刻机。
值得注意的是，早在2020年5月，韩媒报道海力士已在进行1a nm工艺的内存研发，具体节点大概在15nm，预计会引入EUV光刻机生产。
今年 2 月，SK 海力士位于韩国首尔南部利川市的 M16 新厂已经竣工，安装了EUV光刻机，以量产10nm1aDRAM，这是SK 海力士首次使用极紫外辐射（EUV）光刻机在生产存储芯片。
文稿来源：拓墣产业研究整理
