【原创】三星代工策略深度分析:押注GAA与FD-SOI,双轨制应对多元化芯片需求 winniewei / 周五, 26 九月 2025 - 10:06 在全球半导体行业迈向万亿美元市场规模的道路上,晶圆代工作为关键的产业环节,正经历着前所未有的机遇与挑战。人工智能(AI)、高性能计算(HPC)和汽车电子等领域的爆发式增长,对芯片的性能、功耗和成本提出了多元化且苛刻的要求。 阅读更多 关于 【原创】三星代工策略深度分析:押注GAA与FD-SOI,双轨制应对多元化芯片需求登录或注册以发表评论
三星公布3纳米GAA架构制程技术芯片开始生产 winniewei / 周四, 30 六月 2022 - 10:38 相较三星5纳米(nm)而言,优化的3纳米(nm)工艺,性能提高23%,功耗降低45%,芯片面积减少16% 阅读更多 关于 三星公布3纳米GAA架构制程技术芯片开始生产登录或注册以发表评论
台积电:2nm芯片将于2025年投产 首次使用GAA技术 winniewei / 周一, 18 四月 2022 - 10:17 第一季度财报电话会议上,台积电报告称正全力以赴地开发下一代工艺节点。这家半导体巨头计划在今年晚些时候将投产首批 3 纳米工艺,并在 2025 年底前做好 2 纳米工艺的准备。 阅读更多 关于 台积电:2nm芯片将于2025年投产 首次使用GAA技术登录或注册以发表评论
新思科技与三星合作,加速推广变革性3纳米GAA技术 winniewei / 周三, 7 七月 2021 - 11:17 新思科技近日宣布,其Fusion Design Platform™已支持三星晶圆厂实现一款先进高性能多子系统片上系统(SoC)一次性成功流片,验证了下一代3纳米(nm)环绕式栅极(GAA)工艺技术在功耗、性能和面积(PPA)方面的优势。 阅读更多 关于 新思科技与三星合作,加速推广变革性3纳米GAA技术登录或注册以发表评论
新思科技与三星合作,加速推广变革性3纳米GAA技术 winniewei / 周三, 7 七月 2021 - 11:16 新思科技近日宣布,其Fusion Design Platform™已支持三星晶圆厂实现一款先进高性能多子系统片上系统(SoC)一次性成功流片,验证了下一代3纳米(nm)环绕式栅极(GAA)工艺技术在功耗、性能和面积(PPA)方面的优势。 阅读更多 关于 新思科技与三星合作,加速推广变革性3纳米GAA技术登录或注册以发表评论
西门子的 Analog FastSPICE 平台获得三星Foundry认证,可支持 3nm GAA 工艺技术设计 winniewei / 周一, 1 二月 2021 - 14:13 西门子近日宣布,其业界领先的模拟/混合信号(AMS)电路验证工具现可用于三星Foundry 3nm 环绕栅极 (GAA)工艺技术。 阅读更多 关于 西门子的 Analog FastSPICE 平台获得三星Foundry认证,可支持 3nm GAA 工艺技术设计登录或注册以发表评论