半导体龙头英特尔(Intel)先进制程策略大转弯,除了传出10纳米以下制程良率未如预期,内部也调整将最先进工艺制程未来优先提供服务器芯片生产之用,改变过去PC挂帅策略。
<strong>10 纳米先进制程良率遇关卡</strong>
根据Barron‘s报导,根据BlueFin Research分析师在摄影仪器工程学会(Society of Photographic InstrumentaTIon Engineers)论坛情资显示,英特尔10纳米量产设备2017年下半有望准备就绪,但尽管如此,英特尔至今仍未克服10纳米量产良率不佳的问题。
10纳米先进制程良率低,英特尔、台积电全球两大晶圆厂先后都传出有类似问题待克服。
英特尔原预计2017年下半将10纳米制程导入量产,但受制于良率问题,英特尔可能难以如愿。分析师估计,英特尔10纳米量产时程可能往后顺延2~3个月。
无巧不成书,手机芯片伙伴联发科日前对台积电10纳米制程良率偏低,导致Helio X30高端移动处理器上市时程受到些许耽搁也颇有微词。
<strong>最新制程率先导入服务器芯片生产</strong>